Problemy z EUV rozwiązane, za kilka lat powstaną 2-nanometrowe kości?
11 lipca 2019, 09:02AMD zaprezentowało niedawno 7-nanometrowe procesory z rodziny Ryzen 3, a Samsung może w ciągu najbliższych miesięcy rozpocząć produkcję kości w technologii 5-nanometrów. Stało się to możliwe dzięki temu, że w końcu poradzono sobie z problemami trapiącymi litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV).
Litograficzne problemy
21 września 2009, 08:47Przemysłowi półprzewodnikowemu doszedł kolejny problem związany z koniecznością przełamywania kolejnych barier w miarę zmniejszania się poszczególnych elementów umieszczanych na krzemie. Tym razem nie chodzi o kłopoty związane z właściwościami materiałów czy odpowiednimi technikami produkcyjnymi.
TSMC światowym liderem we wdrażaniu EUV
16 października 2019, 15:13Przed tygodniem TSMC ogłosiło, że wykorzystywana przezeń technologia 7nm plus (N7+) jest pierwszym komercyjnie dostępnym wdrożeniem technologii EUV (litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie). Tym samym tajwański gigant ustawił się w roli światowego lidera EUV. I wielu analityków to potwierdza.
Nowy fotorezyst dla technologii 20 nanometrów
17 listopada 2009, 12:53Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystu, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym.
Spadające krople zamarzają w nietypowy sposób. Odkrycie udoskonali druk 3D i procesory
27 stycznia 2020, 16:22Zwykle w zamarzającej wodzie pojawiają się kryształy lodu, które rozrastają się, zamieniając płyn w ciało stałe. Zwykle, bo nie zawsze. Okazuje się, że kropla po opadnięciu na zimną powierzchnię zamarza w inny sposób.
Intel omija problemy z EUV
1 marca 2010, 15:59Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych.
Intel zainwestuje 4 miliardy w EUV
10 lipca 2012, 08:36Intel zainwestuje 4 miliardy dolarów w holenderską firmę ASML, produkującą sprzęt do litografii. W zamian koncern obejmie 15% akcji przedsiębiorstwa.
Fabryka specjalnie dla Apple'a?
23 lipca 2012, 17:45Serwis HotHardware, powołując się na zaufane źródło, twierdzi, że TSMC rozważa budowę fabryki specjalnie dla Apple’a. Miałaby ona zostać specjalnie przystosowana do potrzeb amerykańskiego koncernu i jego planów rozwojowych.
ASML zapowiada kolejną generację urządzeń
22 kwietnia 2013, 11:58Holenderska firma ASML, największy na świecie producent sprzętu dla przemysłu półprzewodnikowego, zapowiedział, że do 2015 roku dostarczy prototypowe urządzenia służące do pracy z 450-milimetrowymi plastrami krzemowymi w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i litografii zanurzeniowej.. Firma ogłosiła też, że jej partnerzy - Intel, Samsung i TSMC - rozpoczną w 2018 roku masową produkcję za pomocą tego typu urządzeń.
Po 50 latach udało się znaleźć rzadki typ gwiazd podwójnych
2 grudnia 2021, 12:37Astronomowie z Center for Astrophysics w końcu zaobserwowali nowy typ gwiazdy podwójnej, której istnienie przewidziano przed 50 laty. Obserwacje są ostatecznym potwierdzeniem teorii dotyczących powstawania i ewolucji tego rzadkiego typu gwiazd. To brakujące ogniwo ewolucyjne tworzenia się gwiazd podwójnych. Od dawna go szukaliśmy, mówi główny autor badań, Kareem El-Badry.
« poprzednia strona następna strona » 1 2 3 4 5 6 7 8 9 …
